Page 156 - Электронное издание

а) нанесение Н2О - шликер покрытия
- оксидная плёнка
- нихромовый сплав
Х20Н80
20 С
0
Н2О Н2О
б) сушка О - шликер покрытия
2 - оксидная плёнка
- нихромовый сплав
Х20Н80
100…540
0
С
в) О - сухое покрытие
зарождение 2 - оксидная плёнка
центров - нихромовый сплав
кристаллизац Х20Н80
ии и начало 540…720
0
размягчения С
стекломатри - расплав покрытия
цы - контактный слой
- оксидная плёнка
- нихромовый сплав
г) 720…1080 Х20Н80
0
образование С
расплава и
обжиг - кристаллизующееся
покрытие
- контактный слой
- оксидная плёнка
- нихромовый сплав
1080…5 Х20Н80
40 С
0
540…9
д) 60 С
0
ситаллизация
по режиму: t 1 - ситалловое покрытие
- контактный слой
0
= 540 C, - оксидная плёнка
t 2 = - нихромовый сплав
960 C, Х20Н80
0
 1 =  2 = 960…20 С
0
2 часа

152

е)