Page 157 - Электронное издание

Рисунок 3.20 Схема формирования жаростойких ситалловых покрытий с
повышенным коэффициентом диффузного отражения на нихроме

В интервале температур Охлаждение покрытия
540…720 С (рис 3.20, в) начинается осуществляется резко с 960 до 20 C
0
0
оплавление частиц покрытия и (рис.3.20,е), что соответствует условиям
зарождение центров кристаллизации в эксплуатации защищаемых нихромовых

виде ликвационных микрокапель. деталей и конструкций промышленных
При температурах 720…1080 С печей.
0

(рис 3.20, г) образуется расплав Учитывая ионный характер
покрытия, в котором имеются как расплаваNa2Si2O5, становится

микроликвационные области, так и очевидным, что формирование
микрочастицы катализаторов контактного слоя, обеспечивающего

кристаллизации. При температурах прочность сцепления системы нихром-

1040…1080 0 С происходит обжиг покрытие в нашем случае, имеет

покрытия в течение 7 мин, в результате электрохимическую природу. В роли

чего расплав покрытия смачивает деполяризатора действует, в

поверхность оксидного слоя частности, радикал [(Si2O5)n] 2n-

нихромового сплава и реагирует с ним аналогично действию боратов и

с образованием контактного слоя. фосфатов, электрохимический

При дополнительной термической механизм взаимодействия которых с

обработке по режиму: t1 = 540 C, t2 = металлами доказан [7]. При этом в
0
960 C,1 = 2 = 2часа(рис.3.20, д ) в температурном интервале
0
покрытии наиболее полно формирования покрытия 1040…1080 С
0
обеспечивается формирование имеют место следующие физико-

кристаллических фаз, химические процессы:

предопределяющих его высокие Ni + Na2Si2O5 Na2SiO3 + NiO

термические и физико-механические Cr + Na2Si2O5 Na2SiO3 + Cr2O3

свойства. Как показали результаты

микрорентгеноспектрального анализа

153