Page 57 - ЭВМ
P. 57

Рис. 3.1. Классификация ИМС

                      Пленочные  ИМС  состоят  из  элементов,  которые  выполнены
               в  виде  пленок,  нанесенных  на  поверхность  диэлектрика.  Тонкие
                                         –6
               пленки (не более 10  м) обычно наносят термовакуумным осаждени-
               ем и катодным распылителем пленкообразующего состава, а толстые
                           –6
               (более 10  м) – шелкографией или втиранием состава через «маску».
               Методом пленочной технологии обычно изготовляют пассивные эле-
               менты схем – резисторы, конденсаторы и индуктивности. Пленочная
               технология предпочтительна в тех случаях, когда необходимо изгото-

               вить сравнительно небольшое количество специализированных схем
               с высокой точностью номиналов пассивных элементов.
                      Полупроводниковые  микросхемы  в  настоящее  время  являются
               одним  из  наиболее  перспективных  направлений  микроэлектроники,
               поскольку  дают  возможность  изготавливать  высококачественные
               активные элементы и относительно просто осуществлять их защиту.
               В полупроводниковых (монолитных) микросхемах все составляющие
               элементы  выполняются  в  объеме  или  на  поверхности  одного  полу-

               проводникового кристалла, помещенного в корпус.
                      Наряду с полупроводниковой и пленочной широко применяется
               гибридная  технология,  в  которой  сочетаются  тонкопленочные  или


                                                           57
   52   53   54   55   56   57   58   59   60   61   62