Page 67 - Buku Pengayaan Elektrokimia
P. 67

Prinsip Kerja Elektroplating

            Elektroplating  juga  dikenal  dengan  istilah  elektrodeposisi  pelapis  (coating).
            Elektroplating  atau  penyepuhan  merupakan  proses  pelapisan  suatu  logam
            dengan logam lain dengan cara elektrolisis. Prinsipnya yaitu logam yang akan
            disepuh  diperlakukan  sebagai  katoda,  dan  logam  penyepuh  diperlakukan
            sebagai anoda. Dalam penyepuhan kedua elektroda tersebut dimasukkan ke
            dalam larutan elektrolit, yaitu larutan yang mengandung ion logam penyepuh.

            Sebagai  contoh:  besi  yang  akan  dilapisi
            dengan  tembaga,  maka  yang  bertindak           Prinsip  elektroplating  ialah  sebagai
            sebagai  katoda  adalah  besi,  sedangkan         berikut.
            anodanya       adalah      tembaga,      dan      Katoda  : logam yang akan dilapisi
                                                              Anoda  : logam untuk melapisi
            elektrolitnya adalah tembaga sulfat (CuSO4).      Elektrolit  : larutan yang
                                                              mengandung ion logam pelapis
            Hasil   yang    diperoleh    dalam     proses
            elektroplating   dipengaruhi  oleh  banyak
            variabel, di antaranya adalah:

                1.  Larutan yang digunakan
                2.  Suhu larutan
                3.  Waktu plating
                4.  Tegangan antara kedua elektroda
                5.  Jenis elektroda yang digunakan
                6.  Kerapatan arus
                7.  Konsentrasi larutan
                8.  Adanya pengotor/kontak dengan lgam lain yang lebih aktif daripada
                    permukaan lapisannya

            Dalam  proses  elektroplating,  reaksi  kimia  yang  terjadi  di  sekitar  daerah
            elektroda sangat rumit. Tahap pertama logam dengan pemberian potensil ion
            logam mengalami penyusunan di permukaan elektroda membentuk lapisan
            ganda  Helmholtz,  diikuti  dengan  pembentukan  difusi  lapisan.  Kedua  lapisan
            tersebut disebut sebagai lapisan Gouy-Chapman. Proses terbentuknya lapisan
            adalah sebagai berikut:

              Migrasi  ion  logam  dalam  larutan  terhidrasi  bermigrasi  ke  arah
              atoda bawah, pengaruh arus serta pengaruh difusi dan konveksi
                                                                                1
                                                                                1

              Transfer  elektron  pada  permukaan  katoda,  sebuah  ion  logam   1
              terhidrasi memasuki lapisan ganda menyebar di mana molekul air    1
              ion  terhidrasi  berada.  Kemudian  logam  masuki  lapisan  double   1
               Helmholtz dan kehilangan hidrat
                                                                                1
                                                                                2

               62
   62   63   64   65   66   67   68   69   70   71   72