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PILOTES OTP
OTP-RPI RÉACTEUR POLYVALENT INOX
➢ Réalisation de synthèses chimiques en conditions industrielles
➢ Formation de conducteurs en appareils chimiques
Opérations proposées
Estérification, concentration par évaporation, cristallisation par refroidissement
Apprentissage et mise en œuvre d’opérations élémentaires
Chargement par monte-jus et vidange des recettes sous vide
Réglage de la chauffe et basculement circuit eau/vapeur
Réglage des paramètres de l’unité
Puissance de chauffe, vitesse d’agitation, débit condenseur
Respect de consignes de sécurité
Mise en œuvre de procédures de nettoyage avec validation visuelle et analytique
Caractéristiques générales Instrumentation
• Vacuomètre à aiguille.
• Cuve conique inox, double enveloppe, avec • Manomètre à aiguille.
couvercle. • Manomètre à colonne de liquide :
0 à 20 cm de colonne d’eau.
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• Projecteur Exd • Sondes de température Pt100Ω, ADF.
• Agitation. • Thermomètres à dilatation de gaz pour
réacteur et évent.
• Ampoule de coulée, 25 L, revêtement • Débitmètres.
SURLYN.
En option
• Colonne, garnissage : anneaux Raschig en - Filtre büchner inox.
verre.
• Condenseur partiel faisceau tubulaire inox.
Reflux externe .
• Condenseur total faisceau tubulaire inox.
• Décanteur, 3 L, double enveloppe.
Sécurité 200 - 400 V Eau de ville 20 kg/h 1000mbar Évacuation
3ϕ - 50/60 Hz 1000 L/h 6 bar max absolus par caniveau
- Disque de rupture.
Dim : 170 x 160 x 450 cm - 200 kg
TI2
TI5 TI6
8
Réacteur tronconique d’une capacité de 50L OTP RPI
permet la réalisation de synthèse chimique en conditions Vapeur calorifugée S=0.9m2 S=0.9m2 TI8
6
industrielles. Un système de monte jus permet de remplir TI1 Alimentation eau de refroidissement
une ampoule de coulée.
Un jeu de vannes permet l’alimentation en vapeur 17 ou en
eau froide 15 de la double enveloppe. 7 9 monte jus
17 5 4 Vide
Un projecteur permet de visualiser le mélange réactionnel 11
à tout moment. 3 DP 10
M 12
Un ensemble de vannes permet de mettre les recettes à O1 TI4
l’atmosphère lors de leur vidange en cours de monte jus PI1 1 14 16
manipulation. PI3 TI7 15
TI3
13
Variante UPR/1510 2
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Option
Chaudière vapeur. empotage
Génie Chimique & Opérations Unitaires 45