Page 94 - E-Module Struktur Atom dan Nanoteknologi - Ekky Juan Danil. S.

KEGIATAN
PEMBELAJARAN  URAIAN MATERI

B. SINTESIS NANOMATERIAL
A. PENGERTIAN NANOTEKNOLOGI

Pada pendekatan bottom-up dikenal teknik EISA atau evaporation-induced self-assembly dan

The dip-coating deposition. Dimana keduanya biasa digunakan untuk fabrikasi film tipis. Dip coating
adalah suatu proses yang digunakan untuk pelapisan, misalnya bahan semikonduktor. Pada proses

pelapisan ini, biasanya di bagi menjadi beberapa langkah. Perendaman (immersion), dimana substrat

ini direndam dalam larutan bahan lapisan pada kecepatan konstan. Kemudian Start-up, dimana

substrat telah berada di dalam larutan untuk sementara waktu dan mulai ditarik ke atas. Kecepatan
menentukan ketebalan lapisan (penarikan lebih cepat memberikan bahan pelapis yang lebih tebal).

Pengeringan, dimana kelebihan cairan akan mengalir dari permukaan. Penguapan (evaporation),

dimana pelarut yang menguap dari cair, membentuk lapisan tipis. Pada proses dip coating ini,
kecepatan alat sangat berpengaruh pada tiap langkah yang dilalui. Untuk itu, perlu diperhatikan

dalam pengontrolan kecepatan gerak alat agar hasil pelapisan bahan semikonduktor mencapai hasil

yang sesuai dengan kebutuhan.

Di sisi lain kombinasi terintegrasi teknologi top-down dan bottom-up telah digunakan untuk
membuat nanomaterial multi-fungsi yang kompleks. Deep X-ray Lithograph telah digunakan pada

material mesopori sebagai rute alternatif untuk memberikan fungsionalitas baru pada film. Sinar-X

yang berasal dari radiasi synchrotron menginduksi kondensasi dinding pori, lepaskan surfaktan dan
sebagian hapus gugus organik yang terikat secara kovalen dalam filmmesopori TEOS-MTES.

Pada saat yang sama, di hadapan prekursor emas dalam larutan, nanopartikel emas

terbentuk dengan cara yang sederhana dan terkontrol. Dosis X-ray mengontrol proses. Bagian film

yang terpapar secara selektif dikondensasi oleh sinar-X sehingga memungkinkan etsa kimia yang

sangat efektif dan pembuatan pola rasio aspek-tinggi, dengan dinding tajam dan kekasaran
permukaan rendah. Proses ini tampaknya langsung, sangat dapat direproduksi, dan tidak

memerlukan beberapa langkah rumit untuk pembuatan pola berpori kompleks yang mengandung

nanopartikel dari dimensi yang dikendalikan.

KONSEP STRUKTUR ATOM DALAM BAHASAN NANOMATERIAL