Page 47 - май
P. 47

НОВЫЕ ТЕХНОЛОГИИ

            В табл. 2 приведены отдельные типы изделий и инструмента, а также свойства по-
    верхности после плазменного азотирования. Перспективным направлением дополнитель-
    ного повышения износостойкости деталей, обработанных с использованием плазменного
    азотирования, является последующее нанесение тонкоплёночных трибологических покры-
    тий с использованием PVD и CVD процессов. В настоящее время разработаны технологии
    и оборудование для безвакуумной локальной химико-термической обработки различных
    изделий с использованием насыщенных плазменных струй и плазменных дуг, например
    локального плазменного азотирования (рис. 5), локальной плазменной цементации (рис.
    6).


























                  a                                б
                                                                       Рис. 5. Процесс безвакуумного локального плаз-
                                                                       менного азотирования направляющего аппарата
                                                                       УЭЦН.
                                            Дуговой разряд
                                            Важно  отметить,  что  большинство  известных  плазменных
                                    технологий базируются на применении именно дугового разряда
                                    (электрической дуги) в качестве источника энергии для ведения
                                    технологических процессов.
                                            Дуговыми называют разряды при плотности тока 102 - 103
                                    А/мм2 и относительно низком катодном падении потенциала по-
                                    рядка потенциалов ионизации и возбуждения атомов газовой сре-
                                    ды или испаряемого металла. Малая величина катодного падения
                   в                потенциала – это результат действия иных механизмов катодной
                                                                   эмиссии электронов, чем в тлеющем раз-
    Рис. 4. Установка плазменного азотирования, диаметр рабочей  ряде. Они создают плотность тока, обе-
    камеры 350 мм, высота 500 мм, потребляемая мощность 3 кВт      спечивающую  протекание  полного  тока
    (а), вид изделий в тлеющем разряде в процессе плазменного
    азотирования (б).                                              разряда. Катоды дуг испускают электро-

                                                                                                  Станочный парк       47
   42   43   44   45   46   47   48   49   50   51   52