Page 36 - февраль

СОВЕТЫ СПЕЦИАЛИСТОВ

разряда. При наличии третьего электрода появилась аноды или обобщённый поло-
возможность подавать на обрабатываемую деталь от- жительный электрод. Подробно
рицательное смещение, что необходимо для предва- описание конструкции дано в [3].
рительной высокоэнергетичной ионной обработки и ВДИ и КМРС представляют неза-
низкоэнергетичного ионного ассистирования. Кон- висимые плазменные устройства,
структивная схема технологического устройства с ко- смонтированные на оси гидроци-
ническим катодом представлена на рис. 2в, подробное линдра в непосредственной бли-
описание приводится в [2]. Большой диаметр катода зости друг от друга. Обрабатыва-
равнялся 80 мм. Угол конусности катода - 45°. Кони- емая поверхность перемещается
ческая форма в сочетании с цилиндрической магнит- относительно сборки плазмен-
ной системой КМРС обеспечили высокий коэффициент ных устройств. Применение ВДИ
полезного использования материала катода (до 80%). позволило использовать ионную
Параметры разряда КМРС в режиме нанесения покры- обработку металлическими иона-
тия при давлении аргона около 1 Па – Uр = 490 В, Iр ми подложки при значительном
= 7,6 А. При напряжении смещения на подложке 60 В удалении от катода. В конструк-
на подложку вытягивался ионный ток до 2 А. В режиме ции ВДИ использовалась под-
предварительной ионной обработки ток разряда КМРС вижная однотрековая магнитная
снижался до 1 А. При напряжении смещения 1500 В система, аналогичная магнитной
ионный ток на подложку составил 0,5 А. системе ЦМРС. Инициирование
С целью интенсификации ионной обработки была дугового разряда производилось
разработана интегрированная схема технологическо- кратковременным включением
го плазменного устройства, включающая два КМРС, магнетронного разряда на катоде
расположенных встречно на оси гидроцилиндра. Кон- ВДИ (подробнее см. [3]). Отличи-
структивная схема дана на рис. 2в, подробное описа- тельным признаком разработан-
ние приводится в [2]. ного интегрированного устрой-
В пространстве, ограниченном обрабатываемой ство была также одновременная
поверхностью и коническими распыляемыми поверх- или попеременная работа ВДИ и
ностями катодов, объединённая магнитная система МРС при давлении аргона в ва-
двух КМРС формирует замкнутую конфигурацию маг- куумной камере 0.3 Па, что не
нитного поля. Благодаря этому плотность ионного тока характерно для типичных усло-
на подложку удалось увеличить. При использовании вий эксплуатации ВДИ.
магнетронов с различными катодами имеется возмож- Было разработано и испыта-
ность наносить биметаллические или композитные по- но интегрированное технологиче-
крытия. ское устройство, предназначенное
Для нанесения биметаллического покрытия медь для нанесения покрытий на вну-
- нержавеющая сталь на внутреннюю поверхность де- треннюю поверхность большего
тали диаметром 250 мм было разработано интегриро- диаметра, что исключало исполь-
ванное технологическое устройство, включающее ци- зование плазмы магнетронного раз-
линдрический вакуумно-дуговой испаритель (ВДИ) с ряда для организации предвари-
нержавеющим катодом и КМРС с медным катодом (рис тельной подготовки поверхности
2а). Плазменные устройства могут иметь независимые высокоэнергетичными ионами

36 Станочный парк